国产光刻机首度公开亮相，科创半导体设备ETF（588710）涨幅现居全市场前五国产光刻机最新消息海思国产光刻机专利发布_股票证券

国产光刻机首度公开亮相，科创半导体设备ETF（588710）涨幅现居全市场前五国产光刻机最新消息海思国产光刻机专利发布

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2025-09-24 14:11:40

9月24日，A股三大指数震荡上行，半导体设备板块领涨市场。

相关ETF方面，截至发稿，科创半导体设备ETF（588710）涨9.81%，现居全市场涨幅榜前五，成交额超2.57亿元。成分股中，神工股份涨停，盛美上海、华海清科、安集科技等多股跟涨。

科创半导体设备ETF（588710）跟踪上证科创板半导体材料设备主题指数，该指数选取科创板内业务涉及半导体材料和半导体设备等领域的上市公司证券作为指数样本，以反映科创板半导体材料和设备上市公司证券的整体表现。

消息面上，据证券时报，在全球半导体产业格局深刻变革的背景下，我国光刻机国产化进程迎来重大突破。9月23日，第二十五届中国国际工业博览会在上海国家会展中心隆重开幕。在这场工业盛会中，上海微电子(SMEE)展台上首次公开亮相了极紫外(EUV)光刻机参数图。

华鑫证券表示，在国家政策支持下，国内企业加速研发突破光刻机制造技术，目前国产光刻机在 90nm 及以下工艺节点方面取得了重要进展。例如，上海微电子自主研发的 600系列光刻机已实现 90nm 工艺的量产，并正在进行 28nm 浸没式光刻机的研发工作。近期，宇量昇与中芯国际的合作测试是国产光刻机突破的重要信号。随着光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、光学部件等 “卡脖子” 材料的国产化进程，形成 “龙头带动、多点突破”的产业升级格局。

（本文机构观点来自持牌证券机构，不构成任何投资建议，亦不代表平台观点，请投资人独立判断和决策。）

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